Послойный и спиральный рост пленок - Механизмы образования и свойства поверхности, созданной при помощи электронно-лучевого испарения

Послойный механизм роста происходит на ступенчатых подложках, имеющих кристаллическую структуру. Сначала осаждаемые атомы адсорбируются на поверхности в виде адатомов, потом диффундируют к ступени, мигрируют вдоль нее и закрепляются на ее изломе, который ограничивает адатом с трех сторон, поэтому первому атому энергетически выгодно занять это положение. Затем другие атомы выстраиваются вдоль ступени, создавая атомный слой. В результате на первый слой нарастают последующие слои, постепенно формируя сплошную пленку. Этот рост происходит по нормали, поэтому он называется нормальным ростом пленки.

Если на поверхности присутствуют винтовые дислокации, которые представляют собой ступени с изломом закрученные вокруг центра, происходит спиральный рост пленки. Этот механизм роста в некоторой степени аналогичен послойному механизму. Особенностью данного механизма является выстраивание адатомов не вдоль прямой ступени, а вдоль закрученной, образовывая спиральную поверхность роста, на которой происходит спиральное нарастание напыляемых слоев с формированием сплошной пленки.

Похожие статьи




Послойный и спиральный рост пленок - Механизмы образования и свойства поверхности, созданной при помощи электронно-лучевого испарения

Предыдущая | Следующая