Разработка магнетронной распылительной системы - Нанесение антидеструкционных покрытий на топливные и кислородные баки космических аппаратов

Как уже было сказано выше, дуальная магнетронная система представляет собой совокупность двух планарных магнетронов и системы питания магнетронов.

Система питания должна обеспечивать подачу положительного и отрицательного потенциала попеременно на оба магнетрона. То есть, в каждый момент времени один магнетрон является анодом, а другой - катодом. Каждый магнетрон состоит из магнитной системы, расположенной внутри корпуса, состоящего из платформы, боковых стенок, мишени и охладителя. Магнетрон находится внутри экрана, который крепится с помощью изоляторов.

Магнитная система состоит из магнитов, располагающихся на магнитопроводе. Конфигурация магнитного поля в пространстве между мишенью и подложкой оптимизирована по критерию максимальной ионизационной способности электронов плазмы над поверхностью мишени, что позволяет при необходимости работать с повышенными значениями тока разряда. Каждый магнетрон имеет специальный трубопровод для прокачки через него воды в целях охлаждения. Вода подводится к магнетрону от фланца ввода посредством медных трубок, используемых одновременно и для подачи питания.

При подключении к источнику питания корпус и мишень магнетрона соединяются с отрицательным выводом источника питания через трубопровод охлаждения, а положительный вывод источника питания подключается к корпусу установки и к "земле". Положительный вывод источника питания может подключаться к анодной системе.

На магнетронах посредством винтов закрепляются мишени из наносимого материала. В рассматриваемом случае мишени выполнены из нержавеющей стали, однако могут наноситься и другие металлы.

Размещение дуальной магнетронной системы внутри камеры показано на рис. 15.

дуальная магнетронная система внутри вакуумной камеры

Рис. 15. Дуальная магнетронная система внутри вакуумной камеры

Планарные магнетроны крепятся на кронштейнах посредством винтов, при этом для смены мишеней нет необходимости демонтировать магнетроны. Кроме того, на тех же кронштейнах крепится ионный источник, применяемый для очистки поверхности.

В качестве рабочего газа применяется аргон, подаваемый к магнетронам посредством системы газонапуска.

При необходимо возможно отключение одного магнетрона и применение ДМС как обычной магнетронной системы с одним магнетроном.

Похожие статьи




Разработка магнетронной распылительной системы - Нанесение антидеструкционных покрытий на топливные и кислородные баки космических аппаратов

Предыдущая | Следующая